藍寶石拋光墊
首頁 》 精密機械設(shè)備及備件類》藍寶石拋光墊
CMP 研磨墊,拋光墊, CMP PAD, 氨基甲酸乙酯研磨墊(日本產(chǎn))
日本進口TORAY半導體拋光墊,研磨墊,阻尼布
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采用高分子樹脂合成與濕式制膜加工技制得的高品質(zhì)研磨拋光墊。
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產(chǎn)品特點:
?材料的親水性:
?? 采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,對于拋光液的濡濕性(親水性)出眾.
?基層纖維厚度的均一性:
?? 拋光壓力及拋光液的流動量均一
?起泡的泡囊長度均一性:
?? 拋光壓力及拋光液的流動量均一以及拋光效率的均一性高
?起泡的泡囊形狀均一性:
?? 拋光液的含量均一,因此拋光效率均一性高
?起泡的泡囊的開口口徑均一性:
?? 拋光效率均一性高
?基層材料采用微細纖維,厚度均一性及壓力均一性都優(yōu)越,拋光效率高
?絨毛長度更長,良好的親水性和拋光液流動率,通過減薄工藝,更好保持拋光后的面型精度
?兼容性好,藍寶石,水晶,晶片的精拋光用
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TORAY CIEGAL 研磨墊(阻尼布)物理特性:
品名 | CIEGAL 7355-000FE | CIEGAL EC8410 | CIEGAL 25-0E | CIEGAL 25-3E | CIEGAL 25-3L |
重量(g/m2) | 510±100 | 500±80 | 475±80 | 467±120 | 560±50 |
厚度(mm) | 1.49±0.10 | 1.50±0.10 | 1.45±0.15 | 1.45±0.23 | 1.37±0.10 |
壓縮彈性率(%) | 74±15 | 70±15 | 71±20 | 71±25 | 75±8 |
壓縮率(%) | 3.3±1.0 | 2.9±1.1 | 3.7±1.5 | 3.4±2.3 | 3.0±0.8 |
C硬度(Asker c) | 58±5 | 58±5 | 56±5 | 58±5 | 70±3 |
Nap Layer(um) | 530±80 | 530±100 | 500±80 | 500±80 | 500±80 |
開口徑(um) | 65±20 | 70±20 | 80±20 | 80±20 | 80±20 |
摩擦系數(shù)(順) | --- | --- | --- | --- | --- |
摩擦系數(shù)(逆) | --- | --- | --- | --- | --- |
應用 | Si(硅)晶圓及液晶面板的表面拋光 | Si(硅), GaAs(砷化鎵),GaP(磷化鎵),藍寶石晶圓的表面拋光 | Si(硅)晶圓二次研磨,Al板的NiP(磷化鎳)鍍層的表面拋光 |
品名 | CIEGAL 27-3 | CIEGAL 125-000-13 | CIEGAL 8103 | CIEGAL 7455-006 |
重量(g/m2) | 320±30 | 416±48 | 200±30 | 470±50 |
厚度(mm) | 0.98±0.10 | 1.30±0.10 | 0.65±0.05 | 1.25±0.10 |
壓縮彈性率(%) | 73±15 | 85±15(參考) | --- | --- |
壓縮率(%) | 4.0±2.0 | 7.0±3.0(參考) | --- | --- |
C硬度(Asker c) | 67±5 | 59±8 | --- | --- |
Nap Layer(um) | 570±70 | --- | --- | --- |
開口徑(um) | 70±30 | --- | --- | --- |
摩擦系數(shù)(順) | --- | --- | 0.95±0.15 | 0.83±0.12 |
摩擦系數(shù)(逆) | --- | --- | 0.92±0.15 | 0.83±0.12 |
應用 | 光學濾鏡的拋光 | 一般研磨墊 | 剎車片材 |
TORAY CIEGAL 研磨墊(阻尼布)化學特性
品名 | CIEGAL 7355-000FE | CIEGAL 25-0E,25-3E,25-3L | CIEGAL 125-000-13 |
耐酸性(鹽酸) | ○ PH值(2-7) | ○ PH值(1-7) | ○ PH值(1-7) |
耐堿性(氧氧化鈉) | ○ PH值(7-11) | ○ PH值(7-13) | ○ PH值(7-13) |
耐氧化性(次氯酸鈉) | ○ | △ | ○ |
耐熱性(軟化點) | 190℃ | 190℃ | 190℃ |
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